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      在操作平面拋光機的時(shí)候經(jīng)常出現拋光速率突然降低，對接下來(lái)的拋光工藝效率帶來(lái)很多不便。下面研磨機廠(chǎng)家就來(lái)為大家解答如何解決平面拋光機速率降低的情況。

 

　   首先拋光機的拋光速率低解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。

 

　　粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應當盡可能��；其次是精拋(或稱(chēng)終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。

 

　    同時(shí)，還應使試樣自轉并沿轉盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì )減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現象；濕度太小時(shí)，由于摩擦生熱會(huì )使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現黑斑，輕合金則會(huì )拋傷表面。

 

　　當然，我們?yōu)榱诉_到粗拋的目的，要求轉盤(pán)轉速較低，最好不要超過(guò)600r/min；拋光時(shí)間應當比去掉劃痕所需的時(shí)間長(cháng)些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀(guān)察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。

 

        以上就是研磨機廠(chǎng)家給大家帶來(lái)的解決方案，希望通過(guò)這篇文章能夠幫助大家。